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电镜支持膜

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Quantifoil圆孔碳支持膜

时间:2017-07-28

型号:圆孔

品牌:Quantifoil

价格:面议

Quantifoil支持膜网孔精密排列,孔径、间距已知,可用于估计观察颗粒的尺寸,还可首次应用于自动化电镜观察。Quantifoil碳支持膜孔表面积大,常用于减少样本厚度,降低支持膜干扰造成的失真。多孔膜可用于支撑超薄碳膜或直接作为较大样品的载体(如微米级粉末)。这在电子衍射(ED)、电子能量损失谱(EELS)成像和暗场成像中非常重要。这种膜还可应用于物质纳米特性研究,如生物大分子复合体在载体自由悬层的研究。新制碳膜一般具有较好的亲水性。应用范围包括:

1.       低温电子层析成像重建

2.       自动影像采集

3.       小剂量电子显微观察

4.       低能电子点源(LEEPS)显微观察


Quantifoil圆孔碳支持膜更适合于冷冻电镜(cryo-EM),因为圆孔更有助于形成均匀厚度的冰层。孔尺寸的选择取决于实验所需放大倍数以及是否将支持膜印迹置入成像中。如果选择置入成像中,那么影像质量评定就相对来说容易一些,因为膜片在功率谱上要比单独的冰层大许多。

657

正交圆孔阵列,2µm孔, 2µm间隔 

适用放大倍数在30,000x和40,000x之间

产品编号

描述

单位

657

正交圆孔阵列,2µm - 2µm间隔, 200M 铜网

657-200-CU

正交圆孔阵列,2µm - 2µm间隔, 200M 铜网

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657-200-AU

正交圆孔阵列,2µm - 2µm间隔, 200M 金网

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657-200-NI

正交圆孔阵列,2µm - 2µm间隔, 200M 镍网

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657-300-CU

正交圆孔阵列,2µm - 2µm间隔, 300M 铜网

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657-300-AU

正交圆孔阵列,2µm - 2µm间隔, 300M 金网

10/

657-300-NI

正交圆孔阵列,2µm - 2µm间隔, 300M 镍网

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658

正交圆孔阵列,1.2µm孔,1.3µm间隔 

适用于大约50,000x的放大倍率

产品编号

描述

单位

658-200-CU

正交圆孔阵列,1.2µm - 1.3µm间隔, 200M 铜网

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658-200-AU

正交圆孔阵列,1.2µm - 1.3µm间隔, 200M 金网

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658-200-NI

正交圆孔阵列,1.2µm - 1.3µm间隔, 200M 镍网

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658-300-CU

正交圆孔阵列,1.2µm - 1.3µm间隔, 300M 铜网

10/

658-300-AU

正交圆孔阵列,1.2µm - 1.3µm间隔, 300M 金网

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658-300-NI

正交圆孔阵列,1.2µm - 1.3µm间隔, 300M 镍网

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