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电镜支持膜

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  • 超薄TEM金属支持膜

超薄TEM金属支持膜

时间:2017-08-14

型号:

品牌:

价格:面议

Substratek™为超薄金属支持膜,采用了专利技术生产,其对电子透明,因此可用于TEM。超薄支持膜可用于电化学处理、晶体生长及在支持膜上进行纳米或微米加工,因此无须另外制样就可用TEM观察,节省了时间,避免了人工假象及对昂贵减薄工具的依赖。与广泛使用的碳支持膜相比,金属支持膜因具高的表面能而更适合加工过程。

超薄Substratek™金属支持膜的重要性能包括:

  • 2-3nm厚,对电子透明

  • 形体尺寸小,不会干扰样品特征

  • 化学稳定性 (可用于电镀)

  • 强度高

  • 高表面能

应用包括:

  • 纳米加工

  • 电子束平版印刷术

  • 微触印刷

  • 电化学或电镀

  • 纳米晶生长

  • 碳纳米管

  • 含碳材料的X射线分析

  • 表面与界面科学

Substratek TEM substrates


金属支持膜位于标准3mm300目和400TEM载网上。支持膜种类有金、铂、钯(2-3nm厚)、二氧化钛(TiOx10-20nm厚)。金、铂、钯膜以电化学类方式沉积于TEM金网上;TiOx膜则沉积于铜网上;这些材料被证实在载膜上具有小的形体尺寸。TiOx膜具有更好的生物相容性,可用于生命科学。


400目载网上的支持膜

G400 间距62µm 孔宽37µm 肋宽25µm 透过率37%


产品编号

描述

单位

21410-10

Substratek™ 2-3nm铂膜于400目金网上

10/

21410-25

Substratek™ 2-3nm铂膜于400目金网上

25/

21420-10

Substratek™ 2-3nm金膜于400目金网上

10/

21420-25

Substratek™ 2-3nm金膜于400目金网上

25/

21430-10

Substratek™ 2-3nm 钯膜于400目金网上

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21430-25

Substratek™ 2-3nm 钯膜于400目金网上

25/

21440-10

Substratek™ 10-20nm TiOx膜于400目铜网

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21440-25

Substratek™ 10-20nm TiOx膜于400目铜网

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300目载网上的支持膜

G300 间距83µm 孔宽58µm 肋宽25µm 透过率49%

产品编号

描述

单位

21310-10

Substratek™ 2-3nm铂膜300目金网上

10/

21310-25

Substratek™ 2-3nm铂膜于300目金网上

25/

21320-10

Substratek™ 2-3nm金膜于300目金网上

10/

21320-25

Substratek™ 2-3nm金膜于300目金网上

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21330-10

Substratek™ 2-3nm Pd300目金网上

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21330-25

Substratek™ 2-3nm Pd300目金网上

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21340-10

Substratek™ 10-20nm TiOx膜于300目铜网

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21340-25

Substratek™ 10-20nm TiOx膜于300目铜网

25/

金、铂、钯、氧化钛(TiOx)膜支持膜相关信息

基板TEM基板

金支持膜


金为电子密度高材料,背景形体尺寸相对较大(与银相似)。然而,金是被研究最广泛的材料之一,通常被用于比较。常用于材料科学研究。

基板TEM基板

铂支持膜


铂,尽管为第三行过渡金属,粒径小,薄膜对电子透明而仍具良好的导电性。铂支持膜强度高,非常适合催化剂研究。

基板TEM基板

钯支持膜

钯是铂的出色替代品。形体尺寸小,电子透明性更佳,但导电性差。钯由于成本较低,在集成电路方面,正被研究用作金的替代品。其它的研究领域包括催化剂研究和储氢研究。

基板TEM基板

二氧化钛 (TiOx) 膜,左上角的颗粒是Au颗粒,用作聚焦助剂。

10-20nm厚,粒度极小。二氧化钛为生物相容材料,可融入活组织中。在晶体生长、其它材料与TiOx膜相互作用方面,二氧化钛膜是一种性能极其优越的支持膜。


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