放大倍数校准标样MRS-3

SEM10 x －50,000x 节距标样

应用

• EM - SEM, SE和BSE模式、      SEM/FIB、TEM      (特制)

• 扫描显微镜与表面轮廓仪-      STM、AFM，图案高度为100nm      

• 光镜      – 透射、反射、明/暗场、相差、共焦

• 化学成像-      EDS、WDS、XRF、XPS、Auger等，图案为100nm      CrO₂ 和      Cr在石英上形成。

• 粒径计算-      含用于校准的系列圆、方形和矩形图案

图案设计

MRS-3由高精密度直写电子束制造设备所制，石英上的图案为抗反射的Cr。二次电子像和背散射电子像反差好。图案表面镀有特殊导电材料，使该标样适用于任何加速电压下的SEM成像。

几何设计

MRS-3具有数组嵌套的方形图案，节距分别为2µm、50µm、500µm。

最大方形的尺寸为3mm，线间距为250µm，可用于10 - 100x。50µm节距的图案用于100 - 1000x的放大倍数，2µm节距的图案则用于高达50,000x的放大倍数。

尺寸大小

总体尺寸大约9mm x 9mm x 2.3mm（厚）

MRS-3可连同直径25 mm、厚3mm的铝载台一起被提供。

614-5 和614-62样

光镜接口 OM/R 614-6

这是最常使用的载体，适用于SEM和透射光应用场合。采用特制的MRS-3，可应用于TEM的校准。

精确度

英国NPL（National Physical Laboratories，UK ，NIST的竞争对手）测试表明500µm节距图案的精确度为±0.25µm，而50µm和2µm节距图案的精确度为±0.1µm。这些数据较保守，NIST的测试数据显示了较NPL更好的精确度。

证书

根据ISO指导方针进行认证。每一个MRS-3标样都刻有独立的序列号。证书包括：序列号、认证日期，操作者、使用仪器、实际图案测量值及准确度。同时标有再次认证的日期。

X-Y方向经NIST 和NPL标样认证，Z平面则只能溯源至NIST标准。

为了避免污染您的MRS标准，我们建议将标样储存在真空下。对于安装在钉形样品台上的MRS标样，推荐使用SEM样品台真空干燥器存放。