SEM放大倍数校准标样MRS-4

SEM10x－ 200,000x校准，节距包括1/2、1、 2、50 和500µm。

应用

• EM - SEM, SE和BSE模式、 SEM/FIB、TEM (特制)

• 扫描显微镜与表面轮廓仪-  STM、AFM，图案高度为70nm      

• 光镜  – 透射、反射、明/暗场、相差、共焦

• 化学成像-  EDS、WDS、XRF、XPS、Auger等，图案为30nm CrO₂ 和40nm Cr在石英上形成。

• 粒径计算-  含用于校准的系列圆、方形和矩形图案

图案设计

MRS-3由高精密度直写电子束制造设备所制，石英上的图案为抗反射的Cr。二次电子像和背散射电子像反差好。图案表面镀有特殊导电材料，使该标样适用于任何加速电压下的SEM成像。

几何设计

MRS-4具有1 /2μm，1μm，2μm，50μm和500μm间距的数组嵌套的方形图案。最大的图案的整体尺寸为8mm，线间距为250μm。这可以用来检查10 - 100倍之间的放大倍数。50μm间距的图案可用于放大100 - 1000倍。2,1和1 /2μm间距图案允许校准高达200,000x。纳入标准的是长度为6mm的X＆Y标尺，增量为1μm。

尺寸

MRS-4的整体尺寸约为 9 x 9 x 2.3mm，石英材质，易碎。