MAG*I*CAL®TEM校准标样

沿<011>区域轴观察单晶硅的菊池图案。这个数字中心的宽带在[200] Kikuchi线之间。

该标样晶格常数可溯源，适合TEM各种主要的校准，包括

• 各种TEM放大倍数

• 相机长度

• 图像/衍射花样旋转

包含来自于MBE生长单晶半导体圆片、对电子透明的TEM切片样品。在TEM下，会出现一系列的明暗层，而每层的厚度是已知的。明层（Si层）及暗层（SiGe合金层）厚度的测量基于细致的<1 1 1>Si晶面间距的测量，它在标样本身上是可见的，同时可依赖X射线衍射测定。所设计的晶面间距可用于校准1,000X至1,000,000X间 TEM的各种放大倍数。由于标样亦为单晶硅，因而容易清楚无误地得到校准所需的诸如相机长度以及图像/衍射旋转的电子衍射信息。<1 1 1>硅的晶格常数(0.3135428nm) 是直接可溯源的。