Pelcotec G-1 硅基底网状栅格SEM放大倍数标样

包括 1 微米、10 微米和 100 微米间距的网格

带有 1 微米间距网格的 Pelcotec™ G-1 标样，可在 100x 至 10,000x 放大倍率范围内进行校准或图像失真检查。 可用于 SEM、 Auger、Sims、FIB 和 LM（反射光）。 试样也可直接安装在 Pelcotec G-1 上，可以在图像中提供精确的校准，这在处理粉末时特别有用。 可用来替代已经停产SIRA 标样 (间距为 0.462 微米）。

Pelcotec G-1 具有以下规格：

• 总面积为 3x3mm，网格间距为 1µm

• 10 微米和 100 微米处的线条较粗，便于定位

• 包括 1 微米、10 微米和 100 微米间距

• 在超扁平硅材料上蚀刻出 300nm +/- 30nm 的深线

• 1 微米间距线宽为 200 纳米，10 微米间距线宽为 300 纳米，100 微米间距线宽为 400 纳米

• 精度为 1 微米 +/- 0.025 微米，垂直度优于 0.01°。

• 每个 Pelcotec G-1 标样上都刻有序列号

• NIST 可追溯版本（通用证书）为 Pelcotec G-1T

• 单独认证版本为（单独认证） Pelcotec G-1C

• 硅芯片尺寸为 4x4mm，厚度为 525µm +/-20µm, <100> 方向

• 电阻率为 5-10 欧姆/厘米的掺硼硅晶片

• 可提供未安装或安装在 SEM 样品台上的标样