亲水性/疏水性氮化硅支持膜

PELCO^®亲水性/疏水性氮化硅支持膜

PELCO^® Hydrophilic and Hydrophobic Silicon Nitride Membrane Surfaces

通过原子层沉积技术（ALD）使氮化硅支持膜的表面性质发生了改变。亲水性/疏水性支持膜具有以下优势：

• 在低、高表面能之间选择

• 支持膜平整保形

• 改善润湿性与生物相容性（亲水性）

• 在细胞生长之前表面不必作等离子体处理

• 疏水性镀层为纳米材料的沉积与生长提供新型的平台

疏水性表面提高了溶于或悬浮于有机溶剂材料的制样效果；有机溶剂中的纳米粒子（如碳纳米管）易分散于氮化硅支持膜上。

亲水性表面使水溶液在支持膜上的润湿性和分散性得到改善，避免了使用亲水性较差支持膜时常出现的颗粒团聚现象，尤其适用于水溶液与生命科学研究。

产品规格：

亲水性：在15,50和200nm超低应力氮化硅膜上的2.5nm原子层沉积羟基化氧化铝

疏水性：在15,50和200nm超低应力氮化硅膜上的2.5nm原子层沉积氧化铝和氟甲基硅烷

表面能：

表面	表面粗糙度 (nm)	标准偏差
氮化硅膜	Rq=0.65 Ra=0.45	0.06 0.02
亲水性涂层	Rq=0.57 Ra=0.40	0.04 0.03
疏水性涂层	Rq=0.66 Ra=0.40	0.03 0.05
Rq= Surface Roughness; Ra= Roughness Average