PELCO®氮化硅支持膜是在以EM工业标准的3mm直径圆形基片上，由四种窗口尺寸和8,15,35,50nm或200nm薄膜厚度的组合而成，是目前的市场上最理想和最有用的氮化硅支持膜。
Tomography型SiN支持膜
氮化硅载体薄膜具有化学和机械稳定的优点，可承受高达1000°C的温度变化。 它们非常稳定，所以适合于直接对支持膜上的颗粒或细胞进行各种纳米技术实验。
PELCO®氮化硅支持膜是几乎所有纳米技术研究领域不可或缺的工具。 它们可以在宽温度范围内直接沉积和原位观察动态反应。
铁纳米颗粒被分散在SiN支持膜上，并于350°C氧化。图像显示了氧化后的产物：中空氧化钛纳米颗粒。
Haitao Liu， Dept. of Chemistry， UC Berkeley， California.
蒙特卡罗模拟显示50nm 氮化硅支持膜具有吸收更少，散射更低。50nm支持膜成像、分析性能卓越。
PELCO® 氮化硅支持膜采用最先进的半导体和MEMS 制造技术生产，其优势在于：
8、15、35、50nm 氮化硅支持膜弹性好、张力小
强度高，可直接进行材料沉积和样品操纵
50nm膜厚具有最大的观察区
8和15nm膜厚的支持膜，无孔，用于超高分辨应用
200nm厚氮化硅支持膜强度高，张力小
用于多种处理
特殊窗格，用于TEM Tomography应用
0.5x1.5mm大窗设计主要用于高倾斜（可至75°）tomography应用
多窗型
2个独立的0.1 x 1.5mm窗格
3x3 阵列（含9个 0.1 x 0.1mm窗格）
多重显微分析能力
氮化硅支持膜的机械稳定性可使其同时进行TEM、SEM、EDX、XPS、AFM等多种分析
支持膜耐溶剂、酸及碱
样品可在酸、碱条件下研究、合成、操纵。
适合高温实验
可承受1000° C以上高温。
对含碳样品提供更准确的分析，并减少污染发生
TEM成像与分析时的无碳背景
支持膜清洁容易
物理、化学性能稳定，使用辉光放电或离子清洗技术可容易地清洁支持膜，不建议用超声波清洗。
超平整背景
适合沉积纳米颗粒与薄膜
因无背景结构，非常适合SEM成像
洁净生产过程，避免支持膜上出现污染颗粒
边缘完整不断裂，不含污染物，在100级（US Fed Standard 209E）清洁环境下包装
窗格厚度 200µm 和50µm
200µm ，适合标准载网样品架
50µm，适合特殊载网样品架
工业标准3mm直接圆片
完全适合标准TEM样品架，提供边缘可处理的EasyGrip™，亦提供强度更高的硅片
相同批次支持膜性能相同
适合系列样品间的比较
提供亲水性/憎水性改性表面与多孔膜
应用领域：
细胞生物学
悬浮液、气溶胶、纳米颗粒分析
自组装单层
聚合物研究
薄膜研究
材料科学
半导体装置纳米结构性能
半导体：薄膜表征
催化剂开发
产品编号 | 描述 | 单位 | |
| 8nm膜厚/ 25孔/200µm窗格厚度 | |||
| 21510-10 | 氮化硅支持膜， 8nm厚，0.5x0.5mm窗格有25个60x60的孔 | 10个/包 | |
| 15nm膜厚/ 200µm窗格厚度 | |||
21560-10 | 氮化硅支持膜， 15nm厚，0.25x0.25mm窗格 | 10个/包 | |
21568-10 | 氮化硅支持膜， 15nm厚，2 个0.1x1.5mm窗格 | 10个/包 | |
21569-10 | 氮化硅支持膜， 15nm厚，9 个0.1x0.1mm窗格 | 10个/包 | |
| 35nm膜厚/ 25孔/200µm窗格厚度 | |||
| 21515-10 | 氮化硅支持膜， 35nm厚，0.5x0.5mm窗格有25个70x70的孔 | 10个/包 | |
50nm膜厚 / 200µm窗格厚度 | |||
21505-10 | 氮化硅支持膜， 50nm厚，0.25x0.25mm窗格 | 10个/包 | |
21505-100 | 氮化硅支持膜， 50nm厚，0.25x0.25mm窗格 | 100个/包 | |
21500-10 | 氮化硅支持膜， 50nm厚，0.5x0.5mm窗格 | 10个/包 | |
21500-100 | 氮化硅支持膜， 50nm厚，0.5x0.5mm窗格 | 100个/包 | |
21501-10 | 氮化硅支持膜， 50nm厚，0.75x0.75mm窗格 | 10个/包 | |
21501-100 | 氮化硅支持膜， 50nm厚，0.75x0.75mm窗格 | 100个/包 | |
21502-10 | 氮化硅支持膜， 50nm厚，1.0x1.0mm窗格 | 10个/包 | |
21502-100 | 氮化硅支持膜， 50nm厚，1.0x1.0mm窗格 | 100个/包 | |
21504-10 | 氮化硅支持膜， 50nm厚，0.5x1.5mm窗格 | 10个/包 | |
21504-100 | 氮化硅支持膜， 50nm厚，0.5x1.5mm窗格 | 100个/包 | |
21508-10 | 氮化硅支持膜， 50nm厚，2个0.1x1.5mm窗格 | 10个/包 | |
21509-10 | 氮化硅支持膜， 50nm厚，9个0.1x0.1mm窗格 | 10个/包 | |
100nm膜厚 / 200µm窗格厚度 | |||
21516-10 | 氮化硅支持膜， 100nm厚， 0.25x0.25mm窗格 | 10个/包 | |
21517-10 | 氮化硅支持膜， 100nm厚， 2 个0.1x1.5mm窗格 | 10个/包 | |
21519-10 | 氮化硅支持膜， 100nm厚， 9 个0.1x0.1mm窗格 | 10个/包 | |
21513-10 | 氮化硅支持膜， 100nm厚， 1x1mm窗格 | 10个/包 | |
21511-10 | 氮化硅支持膜， 100nm厚， 0.5x0.5mm窗格 | 10个/包 | |
21512-10 | 氮化硅支持膜， 100nm厚， 0.75x0.75mm窗格 | 10个/包 | |
21514-10 | 氮化硅支持膜， 100nm厚， 1.5x0.5mm窗格 | 10个/包 | |
| 200nm膜厚 / 200µm窗格厚度 | |||
21525-10 | 氮化硅支持膜， 200nm厚， 0.25x0.25mm窗格 | 10个/包 | |
21525-100 | 氮化硅支持膜， 200nm厚， 0.25x0.25mm窗格 | 100个/包 | |
21520-10 | 氮化硅支持膜， 200nm厚， 0.5x0.5mm窗格 | 10个/包 | |
21520-100 | 氮化硅支持膜， 200nm厚， 0.5x0.5mm窗格 | 100个/包 | |
21521-10 | 氮化硅支持膜， 200nm厚， 0.75x0.75mm窗格 | 10个/包 | |
21521-100 | 氮化硅支持膜， 200nm厚， 0.75x0.75mm窗格 | 100个/包 | |
21522-10 | 氮化硅支持膜， 200nm厚， 1.0x1.0mm窗格 | 10个/包 | |
21522-100 | 氮化硅支持膜， 200nm厚， 1.0x1.0mm窗格 | 100个/包 | |
21524-10 | 氮化硅支持膜， 200nm厚， 0.5x1.5mm窗格 | 10个/包 | |
21524-100 | 氮化硅支持膜， 200nm厚， 0.5x1.5mm窗格 | 100个/包 | |
21528-10 | 氮化硅支持膜， 200nm厚， 2 个0.1x1.5mm窗格 | 10个/包 | |
21529-10 | 氮化硅支持膜， 200nm厚， 9 个0.1x0.1mm窗格 | 10个/包 | |
50nm膜厚 / 50µm窗格厚度 | |||
21570-10 | 氮化硅支持膜， 50nm厚，0.25x0.25mm窗格，窗格厚度50µm | 10个/包 | |
21578-10 | 氮化硅支持膜， 50nm厚，2 个0.1x1.5mm窗格，窗格厚度50µm | 10个/包 | |
21579-10 | 氮化硅支持膜， 50nm厚，9 个0.1x0.1mm窗格 | 10个/包 | |
氮化硅支持膜混合装
The Silicon Nitride Assortment Pack
15nmSi3N4支持膜，窗格0.25x0.25mm，1个
15nmSi3N4支持膜，9个0.1x0.1mm窗格，1个
35nmSi3N4支持膜，0.5x0.5mm窗格有25个小孔，1个
50nmSi3N4支持膜，0.25x0.25mm窗格，1个
50nmSi3N4支持膜， 9个0.1x0.1mm窗格，1个
50nmSi3N4支持膜， 0.5x0.5mm窗格，1个
50nmSi3N4支持膜0.75x0.75mm窗格，1个
100nm Si3N4支持膜， 2个0.1x1.5mm窗格，1个
200nmSi3N4支持膜， 0.25x0.25mm窗格，1个
50nmSi3N4支持膜0.5x0.5mm窗格，1个
200nm多孔Si3N4支持膜，2.5um孔， 0.5x0.5mm窗格，1个
产品编号 | 描述 | 单位 |
21597-10 | 氮化硅支持膜混合装 (型号不同的支持膜10个),200um厚 | 包 |
黄小姐（设备）